CMP工藝磨漿專(zhuān)用過(guò)濾產(chǎn)品

在半導(dǎo)體及元件生產(chǎn)領(lǐng)域，使用液體狀的氧化物磨漿來(lái)打磨硅片，這些磨漿的粒度控制對(duì)于硅片絕緣層，鎢和銅的金屬層的表面質(zhì)量有至關(guān)重要的影響，這要求過(guò)濾材料的粒度控制能力恰到好處。

我們提供的專(zhuān)用分級(jí)熔噴濾芯能夠提供一種相對(duì)精確的過(guò)濾精度范圍，在對(duì)以氧化鋁和二氧化硅為材料的磨漿進(jìn)行過(guò)濾的時(shí)候，既能保持其原有的粒度范圍確保拋光質(zhì)量，又能夠延長(zhǎng)過(guò)濾的時(shí)間，達(dá)到節(jié)約的目的。

我們提供多種級(jí)別的分級(jí)過(guò)濾芯來(lái)適應(yīng)在CPM工藝?yán)锬{的不同應(yīng)用點(diǎn)，比如循環(huán)過(guò)濾、布流輸送回路和使用點(diǎn)的過(guò)濾。